保证光刻精度和能量效率。

镜面凸起、凹陷、划痕的尺寸若接近或大于波长，就会造成EUV光线的严重散射、衍射，进而导致光线传播方向偏离设计路径，最终在晶圆上形成的电路图案出现错位、模糊。

拿来生产芯片，良品率恐怕连1%都做不到。

而尴尬的是，此时国内的研究所，并不具备完成EUV光刻机照明系统镜子抛光的工程化和产业化能力。

林南思索一番后，给陈延森发去一封研发进度汇报邮件，并把当前的技术难点标注了出来。

(本章完)